英伟达确认，台积电正在使用cuLitho计算光刻平台进行生产，使其能够加速下一代芯片技术的开发。英伟达还开发了应用生成式人工智能的算法，以进一步提升cuLitho计算光刻平台的价值，与加速计算相结合，让工作流程提升了额外两倍的速度。
     台积电董事长兼首席执行官魏哲家表示：“我们与英伟达合作，将GPU加速运算整合到台积电的工作流程中，从而实现了性能的巨大飞跃，大幅提高了吞吐量，缩短了周期时间，并降低了功耗要求。”
     计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，使用光掩模文件的数学预处理来调整光学光刻中的像差和效果，以优化光源形状和光罩形状，减小光刻成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态，从而提高良品率。据了解，利用cuLitho计算光刻库，可以将工作负载转换成GPU并行处理，使得500个NVIDIA DGX H100就能完成40000个CPU组成的系统所完成的工作。
     英伟达称，通过GPU而不是CPU运算，可以将计算光刻的效率提高40倍，大大减轻晶圆厂的负担。